根据日本专利法,专利申请在提交之后经过一定的审查程序后,可以被公开授权。专利公开授权的时间取决于申请人选择的公开授权方式。
在日本,专利申请人可以选择两种不同的公开授权方式:早期公开和3年后公开。
早期公开是指专利申请在提交之后尽快公开,通常在18个月内公开。这种方式适用于那些希望尽早公开技术信息以保护自己的技术,并扩大自己的专利范围的申请人。
另一种方式是3年后公开。按照这种方式,专利申请将在提交后的3年内保密,之后才会被公开。这种方式适用于那些希望保持技术的机密性并阻止竞争对手获得相关信息的申请人。
无论是选择早期公开还是3年后公开,一旦专利申请被公开,他人就可以查询和获取相关的技术信息。公开授权后,专利权利人可以对他人的侵权行为进行追诉,可以享受专利法所保护的权益。
总之,在日本,专利申请在提交之后可以选择早期公开或3年后公开的方式,具体取决于申请人的需求。
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