专利保护有存在的必要条件吗

是的，专利保护存在的必要条件包括：

1. 新颖性：发明必须是新的，即在申请专利日前，该发明在任何地方都不应该被公开过或公知。

2. 非显著性：发明必须对领域内的技术具有显著的进步或创新性，而不是显而易见的变化或改进。

3. 工业应用性：发明必须有实际的工业应用，可以生产出可使用的产品或技术。

4. 可供足以公开：专利申请必须提供足够详细和清晰的描述，使得普通技术人员可以根据该描述复制或实施该发明。

5. 不属于专利法中排除的范畴：某些类型的发明，如发现的科学原理、数学方法、纯粹的艺术、计算机软件等，可能不符合专利法的保护范围。

满足以上条件的发明才有资格获得专利保护。