专利的保护模式主要包括以下几种:
1. 发明专利:保护发明创造性的技术方案,保护期最长可达20年。
2. 实用新型专利:保护具有实用性和创新性的技术方案,保护期10年。
3. 外观设计专利:保护产品的形状、图案或颜色等外观设计,保护期10年。
4. 植物新品种保护:保护植物新品种的创新性育种成果,保护期20年(木本植物为25年)。
5. 集成电路布图设计专有权:保护集成电路布图设计的创新成果,保护期10年。
上述专利保护模式为企业和个人提供了不同层次的技术创新成果保护,有利于推动技术进步和产业创新。企业和个人需要根据自身的技术创新特点,选择合适的专利保护方式。
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